Inspection

Mikroskopische Inspektion:

Partikel, Kratzer, Strukturdefekte, Vias, Bondpads,  

Stepperdefokussierung, Homogenitätsprobleme 

Edge Inspection (Waferkante wird in Bildfeld- angepassten Schritten kreisförmig entlang gefahren)

Framed Wafer Inspektion

Inspektion nach Wafer sägen 

 *Chipping, Ausbrüche, Risse, Delamination

Defect Review

Wafer

Mikroskopisches Review:

Optisches Review mit Defektklassifikation auf Basis importierter Daten eines Defectscanning Systems (z.B.  KLARF files)

umfangreiche Sortiermöglichkeit 

Darstellung der importierten Defektinformationen in zoombarer Übersichtsmap

schnelle Positioniermöglichkeit zu ausgewählten Defekten auch bei höchster Vergrößerung

automatische Bildspeicherung der ausgewählten Defekte ggf. mit mehreren Kontrastverfahren und Fokusebenen

Infrared Microscopy

MEMS Wafer intermediate layer defect

Infrarotmikroskopie (near infrared microscopy):

Durchlicht- Inspektion (trough silicon wafer inspection)

NIR Auflicht- Inspektion 

NIR Polarisationsmikroskopie 

Inspektion und Vermessung von vergrabenen Layern 

cavity inspection

membrane inspection

Thin Film Metrology

Nanocalc Film Thickness Measuring

Schichtdikenmessung für optisch transparente Schichten
von 50nm bis 20µm

(film thickness measurement with spectral refectometry )

 

Overlay Measurement

Die optische Overlay- und Linienbreitenmessung auf Basis von Lichtmikroskopen ist als berührungsloses, und schnelles Messverfahren bewährt.

Die extreme Präzision der Messergebnisse ist auf leistungsfähige Algorithmen und die perfekt abgestimmte Kombination von Mikroskop, Kamera und Software zurückzuführen.

Mit unserer MCS Systemsoftware ist nun auch eine Kombination verschiedener Aufgabenstellungen wie z.B. CD und Schichtdickenmessung oder automatische Inspektion in einem gemischten Prozess möglich.

Programmierte Messpositionen werden exakt angefahren, neue Messkoordinaten können durch Teaching oder Import schnell gelernt werden.

Linewidth Measurement CD

Die optische Overlay- und Linienbreitenmessung auf Basis von Lichtmikroskopen ist als berührungsloses, und schnelles Messverfahren bewährt.

Die extreme Präzision der Messergebnisse ist auf leistungsfähige Algorithmen und die perfekt abgestimmte Kombination von Mikroskop, Kamera und Software zurückzuführen.

Mit unserer MCS Systemsoftware ist nun auch eine Kombination verschiedener Aufgabenstellungen wie z.B. CD und Schichtdickenmessung oder automatische Inspektion in einem gemischten Prozess möglich.

Programmierte Messpositionen werden exakt angefahren, neue Messkoordinaten können durch Teaching oder Import schnell gelernt werden.

Die programmierten Mess-Strukturen werden mittels Bildalignment exakt positioniert. Eine hochauflösende digitale CCD Kamera nimmt Bilder auf, deren Grauwert- Intensitätsprofile für die Subpixelalgorithmen verwendet werden.

Der Laser-Autofokus sorgt für die bedienerunabhängige reproduzierbare Fokusierung. 

Multi Sensor Systems flex Wafer

Makro- und Mikroinspektion, Overlay, Linienbreiten, Schichtdicken und Infrarotmikroskopie.
Alles auf einer vollautomatischen Anlage mit flexiblem Robot- Waferhandling für Batchbetrieb auch mit unterschiedlichen Waferdurchmessern und ggfs. Edge- Handling.

Kontaktieren Sie uns, Sie werden überrascht sein welche Lösungen wir bereits realisiert haben.

Surface Metrology

Konfokale Mikroskopausrüstung und Weisslichtinterferometrie auf Basis INM200,  oder DM8000 mit Hardware & Software zur Vermessung der Topographie und zum Export der 3D Daten. Auch als Upgrade in Kombination mit Inspection, CD oder Thin Film Measurement erhältlich.

Typische Aufgaben in der Qualitätssicherung und in der Forschung sind die Charakterisierung von Oberflächen verschiedener Rauheiten (Waferstrukturen, Spiegel, Glas, Metalle), die Bestimmung von Stufenhöhen und die präzise Messung von gekrümmten Oberflächen, wie z.B. Mikrolinsen.  Die in der Software enthaltenen effizienten, robusten und hochgenauen Auswertealgorithmen sind Ergebnis umfangreicher Forschungstätigkeit.

Den Messungen liegt das Interferometrie Verfahren zugrunde, das sich darauf stützt, dass sich räumlich und zeitlich kohärente Lichtwellen überlagern können. Dabei werden die Strahlen der Beleuchtungseinrichtung mittels Strahlteiler aufgeteilt. Ein Teil des Lichtes gelangt zur Objektoberfläche, der andere zu einem Referenzspiegel und von dort zurück reflektiert. Im Unterschied zu vielen anderen Verfahren wird das Bild nicht punktförmig oder zeilenweise gerastert. Die Bildaufnahme geht sekundenschnell (es wird  ein Stack von kompletten Kamera-Frames eingezogen) und die Verarbeitung der Messpunkte  erfolgt massiv parallel durch Nutzung vieler Grafikprozessoren CUDA . So können Höheninformationen großflächig und in sehr kurzer Zeit gewonnen werden.