Schichtdickenmessung (Thin Film Measurement)

Mikroskop zur Schichtdickenmessung

Leistungsfähiges System für Schichtdicken zwischen 50 nm und ca. 50 µm.

Halbleiterfertigung:

  • Fotolack
  • Oxide
  • Nitride

Flüssigkristall-Displays:

  • Zellabstände
  • Polyimide
  • ITO

Optische Beschichtungen:

  • Härtebeschichtungen
  • Antireflexionsbeschichtungen
  • Filter

Promicron DM12000-TF

Wafer 9A

Universelles Halbleiter-Mikroskop mit der Option zur Schichtdickenmessung.

Anfrage

 
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